低成本高效率连续镀膜生产线

主要技术指标：

基片尺寸：1100×1300×0.5~1.1

生产节拍：30S/架

可完成膜系：

低温ITO、金属膜、氧化物膜生产线特点：

    低成本、高效率，30s节拍，机械手自动上下片，广泛应用于TP、LCD、TFT、FPD、PDP等诸多行业。